美中競逐一路從貿易戰延伸成科技戰，美國也從單打獨鬥轉變成與盟國聯手圍堵中國。日本經濟產業省（METI）今年5月宣布，針對23種晶片設備實施出口管制措施，其中包含了11項薄膜沉積設備；4項微影曝光設備；3項清洗設備；3項蝕刻設備；1項熱處理設備、1項測試設備等，除了友好的42個國家與地區之外，如：台灣、美國，其餘均需個別申請許可，新規已於7/23生效，加上荷蘭限制DUV（深紫外光）曝光機出口至中國，將對中國半導體產業發展構成一定程度的威脅與箝制。
雖然日本否認這項管制是針對中國，日本經濟產業省部長西村康稔也強調，新規僅是加強監督，避免技術流向軍事用途，不過，外界仍將日本此舉解讀成是跟進美國箝制中國取得關鍵半導體原料與設備所做出的行動。
日本新規對中國影響有多大？此前美國的禁令主要針對邏輯IC領域14/16奈米以下的製程、18奈米以下的DRAM記憶體製程、128層以上的NAND快閃記憶體等，並限制所有美國人不得為中國研發或生產高階晶片；加上荷蘭限制DUV曝光機出口，使中國在先進製程方面的推進受阻，要想發展14奈米以下，難度可說是越來越高。
日本的晶片技術與設備雖然並非最新，但因擴及28奈米以上成熟製程，應用的範圍更廣泛，也是智慧家電、汽車及電信設備等不可或缺的技術，代表中國在成熟製程方面的發展也將受限。
另外，中媒報導指出，2022年中國4大半導體設備來源國為日本、美國、新加坡、南韓，由於艾斯摩爾（ASML）的高階機種數量少，且大多被台積電和三星訂走，因此，日本成了中國半導體設備最大的來源國，佔中國進口總額的3分之1，因此日本祭出限制，對中國半導體產業的影響將更為顯著。
由于日本企业掌握了半导体产业链最上游的关键材料与设备，在前段生产程序常用的19种材料中，就有多达14种由日本供应，因此，可说是握有全球半导体关键生产原料的主导权，这也足以说明，2019年日韩贸易战爆发后，日本对南韩实施光阻剂出口管制，为何会严重打击南韩的半导体产业。
日本此次的管制重点在于先进半导体製造设备，如：东京威力科创（TEL），主产品为半导体成膜、蚀刻设备，以及製造平板显示器液晶的设备；光学仪器大厂尼康（Nikon）的浸润式微影（Immersion Lithography）设备，更是半导体业目前製造先进晶片时广泛应用的技术之一。
另外，还有中国设备的主要供应商-爱德万测试（Advantest Test）、全球第6大半导体设备厂与晶片清洗领域巨头迪恩士（Screen）、晶片切割、研磨、抛光设备厂迪斯科（Disco）等，由于日、荷设备大厂在半导体行业中具有难以取代的地位，因此，日本的新管制加上荷兰限制DUV出口，恐使中国半导体产业发展陷入停滞，但相对来说，日本数10家相关企业的业绩同样很可能受到冲击。
事實上，在美中兩強大打晶片戰的同時，日本也積極地推動半導體復興計畫，試圖強化自身半導體供應鏈的韌性，因為即便日本的半導體原料與設備對全球供應鏈來說至關重要，但在《美日半導體協議》後，堅持傳統生產模式加上客戶的流失，以及台、韓晶片產業崛起，均導致日本半導體業節節敗退，近年市佔已降至10%左右。
歷經疫情引起的供應鏈斷鏈危機、晶片荒，以及不斷升溫的地緣政治局勢，都讓各國更加重視半導體產業，日本組建國家晶片隊Rapidus，並與歐洲半導體研發龍頭imec、美國科技大廠IBM建立合作關係，預計2027年開始量產2奈米晶片，展現出有意重返半導體大國的野心。
此外，日本政府也重新修訂晶片戰略，目標是在2030年前，讓國內半導體銷售額增加2倍至逾15兆日圓（約台幣3.3兆），同時也積極招攬台積電、美光、三星等半導體大廠赴日設廠，盼提升晶片生產自主力，穩定半導體供應鏈。
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