東哲郎表示,Rapidus 北海道建廠計畫一定會成功,並且大約在 2027~2028 年期間,相關製程技術將發生改變。因為,新興的電晶體架構 GAA (全環繞柵極排列)將取代目前主流的 FinFET 架構,推動半導體製造的進步,可以生產 2 奈米及以下先進製程的晶片。
東哲郎強調,半導體市場正朝著具有特定功能的產品,而不是以通用型晶片的方向來發展,Rapidus希望能夠在這個過渡期搶進市場當中,並能夠得到日本半導體設備和化學品相關公司的全力支持。東哲郎指出,日本必須不惜一切代價創造一個能夠誕生尖端技術的平台,這將成為日本年輕一代的新希望之光。
當前,日本政府正在向 Rapidus 提供數千億日圓的資金援助,以使得能在日本北海道千歲市設立先進製程晶圓廠。該晶圓廠預計研發及生產 2 奈米及其以下先進製程,預計最快將在 2025 年建立第一條原型產線。同時該公司也與 IBM、ASML 等開展深度合作,Rapidus 也已經派遣 100 名工程師到 IBM 學習 2 奈米晶片生產全環柵 (GAA) 電晶體技術。
By Atkinson