挑战 ASML，日本半导体设备大厂 Canon 宣布开卖採用「奈米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）」技术的微影设备，可用来生产 5 奈米（nm）晶片，且经过改良，将可进一步用来生产 2nm 晶片。
Canon发布新闻稿宣布，已于13日开卖採用「奈米压印」技术、可用低成本製造高性能先进晶片的微影设备「FPA-1200NZ2C」。Canon指出，NIL微影设备可用来生产现行最先进的5nm逻辑晶片，且经由改良，期待可进一步用来生产2nm产品。

产经新闻报导，Canon目标藉由NIL微影设备挑战在先进晶片製造设备上居于领先地位的荷兰半导体设备业龙头艾司摩尔（ASML Holding N.V.）。ASML是目前全球唯一一家可生产晶片细微化所不可或缺的「EUV（极紫外光）」微影设备厂商。

彭博社报导，有别于现行的微影设备须藉由曝光、将电路图案烧在晶圆上，NIL技术则是可像印章一样、直接将图案压印在晶圆上，因可一次性就形成电路，缩短製程时间、更省电。Canon在10年前就和日本光罩厂大日本印刷、铠侠（当时为东芝）携手研发NIL技术。日本政府自7月起加强高性能晶片製造设备的出口管制，而关于Canon的NIL设备是否在管制对象内，Canon避谈、仅表示会遵照法规规范来执行。

ASML 13日重挫2.76%，收599.75美元。

MoneyDJ新闻 蔡承启 报导