继荷兰松口有意配合美国加强管制出口大陆先进晶片生产设备之后,日本13日也证实将跟进採取适当措施,此举意味美、荷、日三国携手封杀大陆取得先进晶片生产设备局势成形,陆企发展14奈米以下製程全面停摆,大陆记忆体业首当其冲,南亚科、华邦等台厂将迎来转单。
大陆记忆体业恐受重创,台湾记忆体厂未来有望摆脱陆企杀价竞争,正积极冲刺先进製程抢市。南亚科 (2408)第一代10奈米(1A)製程试产顺利已开始送样,第二代10奈米级(1B)製程产品开发符合进度已导入试产,预期2023年10奈米级製程产品小量贡献。
华邦方面,高雄厂第一期1万片产能将于明年1月到位,以25S製程生产,第二期1万片产能建置时程预计延后半年,明年下半年导入设备,2024年以D20製程量产。
日本和荷兰正计划禁止对大陆销售生产14奈米以下晶片的设备,符合华府在10月推出的规定。日本经济产业大臣西村康稔13日证实,日方正与美国及其他国家讨论相关事宜,日本将根据每个国家的法规採取适当措施,限制对大陆的晶片相关出口,强调「日本已根据基于国际合作精神的外汇法与外国贸易法,严格执行出口管制」。
西村康稔不愿透露相关细节,仅指出目前正与日本企业评估晶片限制令的影响,「我们正在聆听国内企业的说法,研究美国限制的影响」。
法人分析,当前全球前十大半导体设备供应商中,有九家来自美国、荷兰与日本,当中荷兰仅艾司摩尔一家,美国、日本则更是关键。美、日、荷达成共同封杀大陆取得先进晶片生产设备的共识,几乎掐死了大陆採购生产先进晶片所需设备的管道。史福柏登公司分析师雷斯根直言,「大陆没办法靠自己打造先进(晶片)产业,不可能」。
细数全球主要先进晶片设备供应商.包括美国的应用材料、科林研发、科磊(KLA),还有荷兰的艾司摩尔以及日本的东京威力科创。其中,东京威力科创的自动化光阻涂布及显影系统(track)设备独霸全球市场,炉管、蚀刻设备都是全球龙头并取得超过五成市占,所有曝光机都需要搭配Track才能运作。
法人指出,大陆14奈米以下製程发展停摆,影响最大的是记忆体业,主因相较于大陆晶圆代工厂目前製程技术已达1X奈米,几乎不受此次三国携手封杀影响,但大陆记忆体业正处于DRAM从2X奈米导入1X奈米的阶段,先前大陆记忆体厂大举打乱利基型记忆体市况,随着大陆记忆体厂技术发展受挫,台厂可望摆脱陆企纠缠,进而迎来转单。